Переход на производство 7-нм процессоров в России состоится не раньше 2028 года

В Институте прикладной физики Российской академии наук начали разработку первой отечественной установки литографии для производства микрочипов по современной технологии, пишут СМИ.

Сообщается, что уже готов демонстрационный образец, на котором удалось получить отдельные изображения на подложках с разрешением до 7 нм, однако процесс создания полноценного промышленного оборудования займет порядка 6 лет.

На сегодняшний день в России массово производят чипы по техпроцессу более 65 нм (в основном 90 нм и выше).

Такие процессоры используются в автомобильной, космической и промышленной сферах, однако для мелкой электроники, такой как компьютеры, ноутбуки, смартфоны и так далее, нужны чипы от 7 до 28 нм, которых сейчас нет.

Процесс создания отечественного литографического оборудования разделен на три этапа.

Первый этап продлится до 2024 года и включает в себя задачу разработать рабочую установку с полным циклом операций и сделать ее привлекательной для инвесторов.

На втором этапе, который планируют осуществить с 2024 по 2026 годы, собираются улучшить систему, увеличить разрешение, повысить производительность и роботизировать некоторые операции.

Такую установку уже можно будет применять на масштабных производствах.

Дедлайн по третьему этапу установлен на 2028 году.