Техпроцес 0,2 нм буде освоєно до 2037 року
Техпроцес 0,2 нм буде освоєно до 2037 року

Техпроцес 0,2 нм буде освоєно до 2037 року

Бельгійський дослідницький центр Imec співпрацює зі світовими лідерами у сфері виробництва чіпів, тому його керівництво може представляти шлях розвитку всієї напівпровідникової галузі на кілька років вперед. На його думку, до 2037 року виробники чіпів зможуть освоїти техпроцес A2, а трьома роками пізніше вдасться подолати бар’єр 0,1 нм.

Якщо виходити з прийнятих TSMC позначень, техпроцес A2 відповідає літографічним нормам 0,2 нм або 2 ангстреми. Таким чином, у 2040 напівпровідникова галузь може подолати бар’єр в 1 ангстрем, якщо передбачення глави Imec Люка ван ден Хова (Luc Van den hove) виправдаються. Свої заяви він зробив на технологічному форумі у Тайвані, роботу якого широко висвітлювали місцеві ЗМІ.

У наступному році напівпровідникова галузь приступить до виробництва 2-нм чіпів, причому в рамках цього техпроцесу відбудеться зміна структури транзисторів з FinFET на нанолісти (Nanosheet), а в 2027 після переходу на техпроцес A7 буде впроваджена структура транзисторів CFET. На думку представника Imec, випуск чіпів за технологією A14 передбачатиме обов’язковий перехід на використання обладнання з високим значенням числової апертури (High-NA EUV).

Для TSMC міграція на High-NA EUV стає майже визначеною. Нагадаємо, що найбільший у світі контрактний виробник чіпів неодноразово заявляв про відсутність намірів використовувати таке обладнання під час випуску продукції за технологією A16. Її тайванський гігант має намір освоїти з другої половини 2026 року.

Джерело матеріала
loader
loader