Китай розробив власний літограф для виробництва чипів 65 нм

Китайські розробники інтенсивно працюють над створенням нових літографічних машин для виробництва мікросхем, прагнучи знизити залежність від іноземних технологій, на тлі торговельних обмежень з боку США. Хоча нові китайські установки демонструють технологічний прогрес, вони все ще поступаються світовим лідерам галузі.

Нові китайські літографічні машини належать до класу установок для глибокого ультрафіолету (DUV) та використовують лазери на фториді аргону. Одна з машин забезпечує роздільну здатність менше 65 нм і точність накладення шарів 8 нм, тоді як інша працює на довжині хвилі 248 нм з роздільною здатністю 110 нм і точністю накладення 25 нм. Попри ці досягнення, китайські розробки ще не можуть конкурувати з технологіями від світових лідерів, таких як ASML та Nikon, чия продукція має значно вищі технічні показники.

На сьогодні найкращим китайським літографічним верстатом є SSX600 від Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE), який може виробляти чіпи за 90-нм технологічним процесом. Одна з нових DUV-машин є більш прогресивною, ніж SSX600, а інша — гіршою. Для порівняння, найменш просунута DUV-машина компанії ASML має роздільну здатність 38 нм і точність накладення 1,3 нм, що значно перевищує можливості китайських аналогів.

Нові китайські системи ще не готові до масового виробництва, і їхні розробники залишаються невідомими. Однак Китай продовжує прагнути до технологічного суверенітету, особливо в умовах загострення напруженості в торговельних відносинах з США, що призвела до запровадження жорстких обмежень на експорт напівпровідникових технологій. Голландська компанія ASML, один із провідних постачальників літографічних машин, тепер повинна отримувати експортні ліцензії для продажу своїх передових систем до Китаю, що значно ускладнює доступ китайських виробників до цих технологій.

SMEE, державна компанія, яка є основним китайським гравцем у галузі літографічних технологій, продовжує відставати від конкурентів. У 2022 році SMEE продемонструвала літограф, здатний виробляти чіпи за 28-нм технологією, але масове виробництво цього обладнання ще не налагоджено. Крім того, у березні 2023 року SMEE подала патент на технологію екстремальної ультрафіолетової літографії (EUV), що свідчить про певні зрушення в розвитку китайської літографічної галузі навіть в умовах санкцій і обмежень.

Технологічна гонка у виробництві мікросхем продовжує загострюватися, і Китай, попри значні труднощі, активно шукає шляхи розвитку власної напівпровідникової промисловості. Незважаючи на відставання від світових лідерів, китайські дослідження та розробки можуть стати основою для подальшого технологічного прогресу.