Китай ще на крок ближче до чипової незалежності: представлено прототип EUV-випромінювача

Шанхайський стартап Langdao Silex на промисловій виставці в Шанхаї презентував прототип джерела екстремального ультрафіолетового (EUV) випромінювання, яке є ключовим елементом та «серцем» сучасних систем літографії для виготовлення мікросхем, інформує видання South China Morning Post з посиланням на звіт китайського новинного сайту Jiefang Daily.

Досягнення та локалізація

Нова розробка є важливою віхою у прагненні Пекіна досягти повної технологічної незалежності у виробництві напівпровідників. Під час виставки представники компанії наголосили на високому рівні самозабезпечення проєкту:

• 90% компонентів машини є локалізованими, а переважну більшість ключових деталей розробили безпосередньо всередині компанії, що демонструє фактичні кроки китайських інженерів у прагненні знизити залежність від західних технологій.
• Перехід від лабораторії до промисловості: представники компанії охарактеризували прототип як критичний крок до впровадження технології у реальне виробництво.

Проте, розробники зазначають, що повноцінне масове виробництво обладнання почнеться лише за три–п’ять років, враховуючи рівень складності створення стабільних джерел EUV-світла високої потужності.

Раніше ексголова Google Ерік Шмідт заявив, що китайські інженери дуже розумні, працюють неймовірно багато і навіть за умов жорстко урізаних ресурсів зуміли фактично наздогнати США. Їх державна програма з розвитку ШІ суттєво відрізняється від американської. Мета Пекіна — вбудувати ШІ в усе підряд, але виключно в межах їхніх національних законів, включно з драконівськими нормами про свободу слова. При цьому в Китаї технології ШІ мають величезну підтримку, тоді як у США зараз на політичному рівні спостерігається величезне неприйняття та скепсис. І зараз схоже, що у гонці ШІ Китай відстає від США лише на пів року.