ASML, подвинься: Китай начал собственное производство установок для DUV-литографии

Как сообщает The Information, китайская госкомпания из Шанхая начала массовое производство установок DUV-литографии с иммерсионным излучением.

Ожидается, что первые установки получат уже в этом году компании SMIC, Hua Hong Semiconductor и производитель DRAM ChangXin Memory Technologies. В этом году планируется выпустить 5 установок и ещё около 20 в следующем.

Все три указанные компании входят в список китайских производителей, которым в соответствии с законопроектом, находящимся в настоящее время на рассмотрении в Конгрессе США, будет запрещено сотрудничество с нидерландской компанией ASML. В The Information не называет производителя, однако источники издания сообщают, что в ходе разработки были задействованы команды разработчиков DUV из нескольких китайских компаний, одной из которых является поддерживаемый государством стартап Shanghai Yuliangsheng Technology.

SMIC тестирует иммерсионный инструмент от Shanghai Yuliangsheng Technology с сентября 2025 года. Большинство компонентов в новых системах китайского производства, однако некоторые критически важные компоненты по-прежнему поставляются из Японии, а задержки со стороны местных поставщиков сдерживают производство в этом году.

Резолюция Палаты представителей США № 8170 вводит запрет на сотрудничество компаний SMIC, Hua Hong, CXMT, Huawei и YMTC с ASML. Законопроект, внесенный в апреле Закон MATCH был одобрен Комитетом по иностранным делам Палаты представителей 22 апреля. Аналогичный законопроект также зарегистрирован в Сенате под номером S. 4281. Его положения, касающиеся иммерсионных DUV-сканеров, охватывают обслуживание и техническую помощь, а не только вводят запрет на экспорт, таким образом расширяя ограничения на оборудование, которое уже используется на китайских предприятиях.

ASML планирует поставить около 130 иммерсионных систем в этом году, что соответствует показателям прошлого года. По словам финансового директора компании Роджера Дассена, ASML планирует увеличить производственные мощности на 30% в 2027 году для иммерсионных систем и изучает возможность увеличения их производства еще на 30% в 2028 году.

При этом на Китай приходится около 20% чистой прибыли ASML в этом году, что на 13% меньше, чем в прошлом году. Технология Immersion DUV позволяет печатать элементы класса 28 нм за одну экспозицию и достигать 7 нм за счет многослойного нанесения рисунка. При этом увеличивается количество ошибок совместимости и уменьшается количество годных образцов.

По словам генерального директора ASML Кристофа Фуке, рост интенсивности производства DRAM частично отражается в замене клиентами многослойного нанесения на более дешевую технологию EUV с однократной экспозицией. Независимый анализ, проведенный AI Futures Project в июне, показал, что коммерческое внедрение иммерсионной ультрафиолетовой литографии в Китае ожидается в середине 2030-х годов. При этом ASML продолжит занимать 98,7% рынка иммерсионной литографии.

Квалификация новых машин для серийного производства может занять много месяцев. По производительности и качеству сборки они уступают ASML. Китайская разработка в области EUV-литографии пока далека от полноценной реализации.

Источник: Tom’s Hardware