Подвинься, ASML: Китай представил ключевой элемент для EUV-литографии
На Международной промышленной выставке в Шанхае китайский стартап Langdao Silex представила собственный источник EUV-излучения.
Установка получила название FlintNano LPP-OXXO. В компании заявляют, что, будучи ключевым элементом EUV-литографии, эта разработка оснащена самыми современными компонентами благодаря независимых исследований и разработок, а доля китайского производства составляет около 90%.
Стоит ли ASML беспокоиться из-за появления в Китае установок для EUV-литографии?
Прототип Langdao Silex использует технологию лазерно-генерируемой плазмы (LPP) для получения EUV-излучения. Аналогичный подход применяется ASML и другие производители. Технические характеристики китайского прототипа указывают мощность лазера в 1000 Вт, частоту повторения 1–20 кГц, а также коэффициент преобразования свыше 2%.
Мощность EUV-излучение составляет 15 Вт или более, а время непрерывной работы превышает 100 часов. Размер плазмы составляет 60 мкм, а стабильность — 3 (среднеквадратичное значение), а стабильность энергии — около 5%.
В В Langdao Silex заявляют, что в настоящее время система работает на уровне, достаточном для тестирования пластин. В компании прогнозируют, что к началу крупного масштабного коммерческого производства потребуется от 3 до 5 лет, и это по самому оптимистичному прогнозу.
Помимо источника Для завершения сборки собственной установки для EUV-литографии потребуется сверхточная оптика, подставки для пластин и сложные технологии системной интеграции. Оборудование ASML для EUV-литографии состоит из сотен тысяч компонентов, которые производят и поставляют около 800 партнеров.
ASML опасается новых ограничений со стороны США на поставки в Китай
Компания ASML обеспокоена возможным принятием в США закона о регулировании закупок оборудования и техники для DUV-литография, так называемый закон MATCH Act. Компания из Нидерландов считает, что это приведет к негативным последствиям.
В этом году на долю китайского рынка приходится около 20 % от общей прибыли ASML. В компании убеждены, что ужесточение ограничений на продажу Китаю оборудования для литографии лишь ускорит стремление Пекина к созданию собственных альтернатив.
Источник: Wccftech

