Японские ученые разработали упрощенный EUV-сканер, который удешевит производство чипов

Профессор Цумору Шинтаке (Tsumoru Shintake) из Окинавского института науки и технологий (Okinawa Institute of Science and Technology OIST) представил упрощенную конструкцию для EUV-литографии.

Эта разработка способна серьезно уменьшить себестоимость производства полупроводников чипов и в будущем может серьёзно повлиять на всю индустрию.

Команда японских ученых представила систему из двух зеркал в оптической проекционной установке, что существенно отличается от традиционных конфигураций с шестью зеркалами.

Для эффективной работы такой системы ученые решили две ключевые проблемы: предотвращение оптических аберраций и обеспечение эффективной передачи света.

Система «двухлинейного поля» от OIST освещает фотомаску при минимальных искажениях, что повышает точность изображения на кремниевой пластине.

Важным преимуществом такого минималистского дизайна является повышение надежности и снижение сложности оборудования.

Также такие инструменты для EUV-литографии позволят резко снизить энергопотребления.

В то же время традиционные системы для EUV-литографии часто требуют мощности более 1 МВт.

Пониженное энергопотребление позволит упростить и систему охлаждения.

Эффективность новой конструкции проверена с помощью компьютерного оптического моделирования.

Команда OIST уверена в том, что их разработку можно будет внедрить в массовое производство.

Экономические последствия такого изобретения многообещающие.

Полупроводниковая индустрия может получить новый толчок для развития.

Однако пока не ясно, насколько японская разработка готова к практическому внедрению.

Tom's Hardware.