Американський стартап Substrate залучив понад $100 млн і став «єдинорогом»

Американський стартап Substrate, який підтримує венчурний фонд Пітера Тіля Founders Fund, залучив понад $100 млн інвестицій та отримав оцінку вище $1 млрд, повідомляє The Wall Street Journal. Компанія претендує на роль одного з найважливіших технологічних проривів у сучасній напівпровідниковій індустрії.

Технологія, яка може змінити правила гри

Substrate, що працює у Сан-Франциско, розробила нову систему літографії — ключового етапу виробництва мікросхем, де на напівпровідникові пластини наносять мікроскопічні схеми. Нині цим процесом фактично монопольно керує нідерландська компанія ASML, чиї установки EUV вважаються найскладнішими та найдорожчими у світі.

Система EUV, над якою ASML працювала понад 25 років та інвестувала більше $10 млрд, коштує приблизно від $350 млн за одну установку. Вона контролює вузьке технологічне «горлечко» глобального ринку чипів і визначає темпи розвитку всієї галузі.

Substrate заявляє, що їхня технологія здатна забезпечити зіставну якість нанесення рисунка, але на принципово іншому технологічному підході до лазерної обробки. Такий метод має бути простішим у впровадженні, суттєво дешевшим і швидшим, ніж EUV-рішення ASML.

Ставка на технологічну незалежність США

За інформацією WSJ, компанія вже інтегрує свою технологію в нові виробничі об’єкти, що будуються на території США. Інвестори з Founders Fund, General Catalyst, In-Q-Tel та інших фондів вбачають у цьому можливість зміцнити внутрішню напівпровідникову інфраструктуру США, що є критично важливим з огляду на геополітичну конкуренцію та ризики глобальних ланцюгів постачання.

Нова технологія Substrate може стати першим реальним викликом домінуванню ASML за останні десятиліття та створити конкуренцію в сфері, де її практично не існувало.