/https%3A%2F%2Fs3.eu-central-1.amazonaws.com%2Fmedia.my.ua%2Ffeed%2F137%2Fee859a030f48c754f65531acc5decd9f.jpg)
Без кремния: «первый в мире 2D-транзистор GAAFET» на 40% быстрее аналогов Intel
/https%3A%2F%2Fs3.eu-central-1.amazonaws.com%2Fmedia.my.ua%2Ffeed%2F137%2Fad6af11bf95808b287840fb35a1e9956.png)
Разработчики из Пекинского университета заявили о создании первого в мире двумерного маломощного транзистора GAAFET.
Китайские исследователи называют собственную разработку «многослойной, пластинчатой, монокристаллической двумерной конфигурацией GAA.
«Это самый быстрый и самый эффективный транзистор из когда-либо созданных. Если инновации в области чипов на основе существующих материалов считаются «коротким путем», то наша разработка транзисторов на основе 2D-материалов похожа на «смену полосы движения»», — заявляет руководитель исследования, профессор Пен Хайлинь.
Разработчики уверяют, что их транзистор по результатам тестов превзошел аналогичные разработки Intel, TSMC, Samsung и других производителей. Полевые транзисторы Gate-all-around, сокращенно GAAFET, являются следующим этапом эволюции технологии транзисторов после MOSFET и FINFET.
Последние инновации в производстве транзисторов были достигнуты в основном за счет улучшения контроля за источниками и лучшей связи с затворами. Если у MOSFET-транзисторов затвор контактирует с источником только в одной плоскости, у FINFET — затворы касаются трех плоскостей, схема Gate-all-around охватывает все источники, пересекающиеся в затворах.
Такие транзисторы не являются чем-то новым. Технология производства транзисторов необходима для изготовления микросхем на уровне 3 нанометров и ниже. Однако ключевая особенность китайской разработки заключается в двумерных транзисторах, что обусловлено использованием альтернативных кремниевым элементов.
В качестве альтернативы кремнию китайские разработчики использовали полупроводниковый материал оксиселенид висмута (Bi₂O₂Se), способный быть двумерным полупроводником. Такие полупроводники более гибкие и прочные, когда имеют малые размеры, по сравнению с кремнием, который демонстрирует пониженную подвижность носителей даже на уровне в 10 нанометров.
Из-за торговой войны с США Китай остался без доступа к таким технологиям, как EUV-литография для производства интегральных схем. В связи с этим Китай инвестировал большие средства в создание альтернативных технологий
Поскольку США могут ужесточить свои торговые ограничения на доступ Китая к технологиям, включая потенциальный запрет на технологию GAAFET, китайская технологическая индустрия пытается играть на опережение.
Материал опубликован в журнале Nature
Источник: tomsHardware
/https%3A%2F%2Fs3.eu-central-1.amazonaws.com%2Fmedia.my.ua%2Ffeed%2F137%2Fad6af11bf95808b287840fb35a1e9956.png)

